- плазменная установка последовательной обработки пластин
- plazminis plokštelių nuosekliojo apdorojimo įrenginys statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. single-wafer plasma installation vok. Einzelwaferplasmabearbeitungsanlage, f rus. плазменная установка последовательной обработки пластин, f pranc. installation à plasma pour traitement séquentiel des tranches, f
Radioelektronikos terminų žodynas. – Vilnius : BĮ UAB „Litimo“. Kazimieras Gaivenis, Gytis Juška, Vidas Kalesinskas. 2000.